一、等離子體介紹

　　1.1產(chǎn)品原理

　　晶圓等離子清洗機(jī)通過(guò)對(duì)工藝氣體施加電場(chǎng)使電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、自由活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子處理就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)進(jìn)行氧化、還原、裂解、交聯(lián)和聚合等物理和化學(xué)反應(yīng)改變樣品表面性質(zhì)，從而優(yōu)化材料表面性能，實(shí)現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的。

　　1.2行業(yè)應(yīng)用

　　二、產(chǎn)品介紹

　　2.1產(chǎn)品概述

　　SPV-100晶圓等離子清洗機(jī)(Plasma cleaner)，氣體通過(guò)激勵(lì)電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品表面，清洗產(chǎn)品表面污染物，提高表面活性，增強(qiáng)附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。

　　2.2產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

　　v產(chǎn)品放置治具靈活多變，可適應(yīng)不規(guī)則的產(chǎn)品。

　　v水平電極設(shè)計(jì)，可滿(mǎn)足軟性產(chǎn)品處理需求。

　　v低耗能、耗氣產(chǎn)品。

　　v便捷的收放板方式。

　　v真空系統(tǒng)集成，占地面積小。

　　v合理的等離子反應(yīng)空間，使處理更均勻。

　　v集成的控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)，使操作更方便。

　　2.3產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

　　真空等離子體表面處理系統(tǒng)主要包括三個(gè)部分：真空腔及真空系統(tǒng)，等離子體發(fā)生器，控制系統(tǒng)。

　?。ˋ）真空腔及真空發(fā)生系統(tǒng)

　　真空腔固定于機(jī)柜框架內(nèi)，左右兩側(cè)為可拆門(mén)，因此內(nèi)部的真空腔及真空系統(tǒng)的維修是極方便的。真空發(fā)生系統(tǒng)由波紋管、KF接頭、真空泵以及油霧過(guò)濾器組成，核心部件真空泵（真空泵組）。

　　（B）等離子體發(fā)生器

　　等離子體發(fā)生器在20Pa-100Pa間給電極板施加電壓，產(chǎn)生低溫等離子體。利用高頻轉(zhuǎn)換技術(shù)形成高頻電壓加到電極板上，當(dāng)真空腔內(nèi)達(dá)到一定真空度時(shí)，產(chǎn)生等離子體放電現(xiàn)象，放電后電路會(huì)自動(dòng)調(diào)節(jié)電壓到適當(dāng)值，保證電路正常穩(wěn)定放電。

　?。–）控制系統(tǒng)

　　本系統(tǒng)使用MCGS觸摸屏、西門(mén)子PLC、中文界面。設(shè)備的工藝流程控制：真空泵啟動(dòng)->擋板閥開(kāi)啟->達(dá)到設(shè)定的真空度->通入工藝氣體->RF放電->工作時(shí)間到破真空->工作完成。設(shè)備分自動(dòng)和手動(dòng)兩種方式。

　　2.4產(chǎn)品規(guī)格

　　2.5.1主機(jī)尺寸圖紙

　　2.5.2等離子腔體圖紙

　　三、規(guī)格要求

　　3.1廠(chǎng)務(wù)規(guī)格要求

3.2

3.3

3.4